Taurus-OPCTM技术


    FREMONT, Calif., July 2, 2001 - Avant! Corporation (Nasdaq: AVNT)今天宣布Elpida Memory, Inc.已经选择了Taurus-OPCTM,作为其先进的0.13微米DRAM生产工艺的光学近似修正方案。Elpida Memory, Inc.是NEC Corporation和Hitachi, Ltd.合资企业。

    Elpida用Taurus-OPC来调整在关键电路层中的设计版图形状,以确保从光掩膜到圆片最高质量的图形转换。和Elpida的0.13微米及以下的先进方法一起,以Taurus-OPC模型为基础的技术是快速精确的光学近似修正的必要条件。IC电路的特征已经表现出来越来越精确、均一,导致芯片收益的极大提高,以及电路速度的加快。"在广泛测试了现有的解决方案后,我们得出结论,Avant!的Taurus-OPC光学近似修正解决方案可以给我们晶片上的最精确结果,"Hiroyoshi Tanabe --Elpida研发区工艺开发部门的项目经理说道,"更重要的是,与标准有小小偏差的结果使我们极有信心,我们将协调在产品上取得高成品率。如果没有这个工具,我们物理设计组将没办法同时符合精确度和产量的要求。"

    "在0.26-0.15微米大小内,Rules-based OPC解决方案已经足够了," Dr. Paul Lo-Avant!公司的COO说,"但是因为对摩尔法则的无止境的追求,驱使工艺技术发展到0.13微米甚至以下,这样Rules-based OPC解决方案对生产使用而言,就太过复杂了。为了迎合如今先进的工艺,就必须要有model-based OPC解决方案。我们很高兴Elpida Memory认识到我们的model-based Taurus-OPC解决方案的质量和性能。"
  

      
        

 

 

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